小口径非球面斜轴磁流变抛光技术
随着各种小口径非球面零件的广泛应用,其加工要求也日益提高.针对目前小口径非球面零件存在抛光困难、精度和一致性差等问题,提出一种适合于小口径非球面加工的斜轴磁流变抛光技术.结合该抛光技术的基本原理和加工特点,保持抛光点处的法线在加工过程中始终与抛光头轴线成45°夹角,分析和计算小口径非球面的斜轴磁流变抛光加工路径,设计一种外部为抛光旋转体,内部为固定励磁装置的斜轴磁流变抛光头,并介绍该抛光头的工作原理.利用该抛光技术对直径为6mm的碳化钨和单晶硅小口径非球面分别进行斜轴磁流变抛光试验,试验结果表明工件的表面粗糙度Ra分别由抛光前的12.1nn和10.3 nm下降到抛光后的3.7 nm和3.2 nm,从而验证该加工技术对小口径非球面进行超精密抛光的可行性.
小口径非球面、磁流变抛光、斜轴、碳化钨、单晶硅
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TG580(金属切削加工及机床)
国家自然科学基金51175167,51205120;国际科技合作专项2012DFG70640
2013-11-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
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