纳米压印光刻模具制作技术研究进展及其发展趋势

摘要：

模具是纳米压印光刻(Nanoimprint lithography,NIL)与传统光学光刻工艺最大的区别所在,模具作为压印特征的初始载体直接决定着压印图型的质量,要实现高质量的压印复型,必须要有高质量的压印模具.不同于传统光学光刻使用的掩模(4X),纳米压印光刻使用的是1X模版,它在模具制作、检查和修复技术面临更大挑战.当前,模具的制作已经成为NIL最大的技术瓶颈,而且随着纳米压印光刻研究的日益深入以及应用领域的不断扩大,NIL模具的制造将变的越来越重要并面临着更加严峻的挑战.因此,模具的制造已经成为当前纳米压印光刻一个最重要的研究热点,纳米压印光刻发展的历史也是压印模具不断发展创新的历史.综述了当前国内外各种纳米压印光刻模具制作技术研究进展,并指出三维模具、大面积模具和高分辨率模具的制作、模具缺陷的检查和修复是当前及其将来最迫切的需求、最主要的研究热点和挑战.

关键词：纳米压印光刻、模具制作、三维模具、大面积模具、软模具

所属期刊栏目：45

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家重点基础研究发展计划973计划,2009CB724202;国家高技术研究发展计划863计划,2006AA04Z322;山东省自然科学基金Y2007F49

在线出版日期：2010-03-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共13页

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