Temperature Control System with Multi-closed Loops for Lithography Projection Lens

机标关键词：temperature control system、optical lithography、convergence rate、cascade control、cooling water、structure、influence、Traditional、algorithms、method of、introduce、different、RITC、Contrast、used in、quality、TCU、new、impact、Image

所属期刊栏目：22

分类号：TP2;TP1

资助基金：National Hi-tech Research and Development Program of China863 Program, Grant 2002AA4Z300;National Basic Research Program of China973 Program, Grant 2009CB724205

在线出版日期：2009-06-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：207-213