氦等离子体喷涂中发射光谱参数的研究

摘要：

在等离子体喷涂中,通常采用高温高压等离子惰性气体喷射粉末至金属表面,以此实现表面镀膜.喷涂等离子体的密度和温度是否恰当合理,通常通过惰性气体的发射光谱来诊断.文中采用相对论方法结合德拜屏蔽模型计算了等离子体喷涂中类氢氦离子发射光谱对应的跃迁能、跃迁概率和振子强度等光谱参数,分析了光谱参数随德拜屏蔽长度的变化规律,分别拟合出了跃迁能、跃迁概率和振子强度的对数与德拜屏蔽长度对数间的解析关系式,以期为氦等离子体喷涂中等离子体状态的诊断提供参考.

关键词：等离子体喷涂、发射光谱、类氢氦离子、德拜屏蔽

分类号：TH47(气体压缩与输送机械)

资助基金：甘肃省科技计划项目20JR10RA131

在线出版日期：2022-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：10-12,16