10.3969/j.issn.1002-2333.2018.09.017
喷射电沉积制备替代六价铬的三价铬镀层
在不同的电流密度下,采用硫酸体系的三价铬镀液,通过喷射电沉积法制备了纯Cr(Ⅲ)镀层.温度为25℃,pH值为1.5.研究了电流密度对Cr(Ⅲ)镀层的影响.结果表明,当电流密度为50 A/dm2时,Cr(Ⅲ)镀层硬度为731 HV,摩擦因数为0.14,磨痕宽度为0.55 mm.热处理温度为500℃以上时,镀层硬度急剧下降.低于500℃,镀层硬度呈现缓慢下滑的态势.此外,在Cr(Ⅲ)镀层的表面上发现微裂纹.
三价铬、电流密度、喷射电沉积、组织结构、性能
TQ153.1
2018-12-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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