选区电化学沉积快速成型轨迹规划

摘要：

数控选区电化学沉积快速成型是将快速成型技术与电化学沉积技术相结合的一种新型快速成型方法.为保证数控选区电化学沉积快速成型的零件精度,提出了一种基于电化学沉积技术的快速成型工艺的路径生成算法.结合该成型工艺的特点,分析了快速成型领域常用的几种扫描方式,轨迹规划方案分为STL切片处理、轮廓偏置、轮廓填充、数控加工代码生成四个过程,提出了平行交错往复间隙填充法.实验表明该轨迹规划能够达到选区电化学沉积快速成型的要求,制造出高精度、高表明光洁度的零件.

关键词：快速成型、轨迹规划、电化学沉积、补偿量

分类号：TG662

资助基金：浙江省自然科学基金资助项目0503182-D

在线出版日期：2011-01-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：21-23