CVD金刚石膜等离子体弧抛光的机理研究

摘要：

提出了一种利用等离子体弧抛光CVD金刚石膜的新工艺.通过试验,对其抛光机理作了初步探讨,并对试样进行了实际抛光.结果表明,用等离子体弧加工金刚石膜确实具有抛光效果.粗糙度的降低可以认为有两种机制;一种是熔点以下的氧化刻蚀、石墨化、石墨氧化和溅射,石墨化是关键的因素;另一种是熔点以上的熔化流动、爆炸抛出和弧柱的吹力作用.

关键词：金刚石膜、CVD、等离子体弧、抛光、石墨化

分类号：TG664

在线出版日期：2009-08-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：25-27