10.3969/j.issn.1002-2333.2006.07.024
金刚石薄膜磁性研磨抛光研究
表面粗糙度是影响金刚石薄膜广泛应用的主要因素,选择一种合适的抛光方式可以大幅度降低表面粗糙度,以加速其商业化应用的进程.文中针对内孔金刚石薄膜,提出了一种新的抛光方法--磁性研磨抛光.实验结果表明,可有效除去薄膜晶粒外缘的尖角,而且不会造成涂层的损伤,不影响涂层附着力,是一种温和的抛光方法,可以达到比较理想的抛光效果,采用磁性研磨抛光的金刚石涂层铜杆拉丝模,工作寿命比硬质合金模具提高8-10倍,满足了铜杆拉丝对模具内孔表面光洁度的更高要求.
金刚石薄膜、磁性研磨、抛光
TG5(金属切削加工及机床)
2006-08-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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