纳米级超精密平面抛光机工件微量去除的控制方法

摘要：

研制了一种采用专家数据库智能控制系统的纳米级超精密平面抛光机,对几种功能陶瓷进行了平面抛光实验,并分析了修整环型抛光机抛光过程中工件材料的去除函数,即材料总去除量与抛光盘转数(抛光路径长度)之间的关系.

关键词：超精密抛光、材料去除、抛光路径长度、控制方法

分类号：TG580.692(金属切削加工及机床)

在线出版日期：2003-12-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：44-46