铝、硅元素添加对TiN基薄膜组织和性能的影响
采用物理气相沉积(PVD)法制备TiN、Ti-Al-N和Ti-Si-N 3种薄膜,研究了铝和硅元素添加对薄膜组织和性能的影响.结果表明:Ti-Al-N薄膜组织中Ti3AlN相存在择优取向,形成了粗大的柱状晶;Ti-Si-N薄膜生成了Si3N4相,组织相对细小;Ti-Al-N薄膜的膜基结合力最小,Ti-Si-N薄膜的膜基结合力最大;Ti-Al-N薄膜的表面粗糙度最小,硬度和弹性模量最大;Ti-Si-N薄膜的摩擦因数略高于Ti-Al-N薄膜的,但二者相差很小,这应与Ti-Si-N薄膜组织较细小且形成的Si3N4相具有一定的自润滑性能有关.
物理气相沉积;表面粗糙度;膜基结合力;摩擦因数;择优取向
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TG174.444(金属学与热处理)
长春市科技支撑计划项目11K246
2021-10-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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