氧化铋薄膜的制备及退火温度对其物相和表面形貌的影响

摘要：

采用传统陶瓷烧结工艺,制备了直径为50 mm、厚度为3 mm的Bi2O3陶瓷靶,利用该陶瓷靶和射频磁控溅射技术在Si(111)基体上制备了氧化铋薄膜,研究了溅射压力为0.8 Pa时的氧分压对薄膜物相的影响,并探讨了退火温度(350～550 C)对薄膜的物相和表面形貌的影响.结果表明:随着氧分压从0增大到0.36 Pa,薄膜由BiO相逐渐变成α-Bi2O3相；随着退火温度的升高,薄膜中出现了新的物相,仍为多相结构,不同相的衍射峰半高宽变化有增有减；薄膜的晶粒尺寸随退火温度的升高而增大.

关键词：氧化铋、薄膜、磁控溅射、退火温度

所属期刊栏目：37

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：江苏省六大人才高峰基金资助项目2010-JXQC069;江苏大学高级人才基金资助项目10JDG061

在线出版日期：2013-04-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：13-16