镁合金表面磁控溅射CNx/SiC双层膜的性能

摘要：

采用室温磁控溅射技术在AZ91D镁合金表面制备了CNx/SiC双层薄膜(SiC为中间层),研究了界面结合情况、薄膜的力学和摩擦磨损性能.结果表明:CNx/SiC双层薄膜表面颗粒结合紧密,中间层SiC与基体和CNx层界面的结合很好,均发生了呈梯度的元素扩散,膜基附着力在12N以上;CNx薄膜具有低的纳米硬度(3.85GPa)、低的弹性模量(30.46GPa),但却具有高的硬度与弹性模量比值(0.126)以及好的摩擦磨损性能;在以氮化硅(Si3N4)球为对偶件的室温干摩擦条件下,其摩擦因数约为0.19,磨损率为4.89×10(-6)mm3·m(-1)·N(-1).

关键词：镁合金、薄膜、纳米压痕、摩擦磨损、磁控溅射

分类号：TG174.4(金属学与热处理)

资助基金：江苏省自然科学基金重点资助项目BK2007707;教育部留学回国人员启动基金资助项目教外司2006-331

在线出版日期：2011-07-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：83-86