沉积温度对磁控溅射Ti/TiN多层膜光学和电学性能的影响

摘要：

采用直流反应磁控溅射法于不同温度下在Si(111)基底上制备了Ti/TiN多层膜,采用X射线衍射仪和原子力显微镜对膜的物相和表面形貌进行了分析,研究了沉积温度对膜结构及其光学、电学性能的影响.结果表明:不同沉积温度下制备的Ti/TiN多层膜均由钛和TiN相组成,多层膜与单层TiN膜一样,其表面粗糙度随沉积温度的升高而减小,电阻率随沉积温度的升高显著降低;其表面形貌则比单层膜更加致密和均匀;多层膜红外反射率与其电阻率有关,当电阻率减小时,红外反射率增大.

关键词：磁控溅射、Ti/TiN多层膜、溅射电流、沉积温度

所属期刊栏目：34

分类号：TB3(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金重点项目资助50730007

在线出版日期：2010-12-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：30-32,49