氮流量比对直流反应磁控溅射制备氮化铬涂层组织和性能的影响

摘要：

采用直流磁控溅射法制备氮化铬涂层,研究了氮流量比对涂层相结构、表面形貌和硬度和涂层结合力的影响.结果表明:当氮流量比在30%～100%变化时,涂层主要由CrN相构成;随氮流量比增加,涂层晶粒形貌由三角锥转变为三角锥与球状共存,涂层变得致密,硬度得到提高;氮流量比对涂层结合力影响不大.

关键词：直流磁控溅射、氮流量比、氮化铬涂层

所属期刊栏目：34

分类号：TB3;TG14;TG17(工程材料学)

资助基金：国家科技支撑计划资助项目2007BAE15B05

在线出版日期：2010-10-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：34-37