掺杂钨类金刚石膜的显微结构与性能

摘要：

利用非平衡磁控溅射与离子源复合沉积技术,以高纯甲烷和氮气作反应气体,钨为溅射靶,在40Cr、Si(100)基片和不锈钢基体上分别制备了厚度约为2μm的掺杂钨类金刚石膜,并在类金刚石膜与基体间沉积了过渡层;应用X射线衍射、拉曼光谱、俄歇电子能谱等手段分析了掺杂钨类金刚石膜的显微结构和表面成分;应用球盘摩擦磨损试验机以及纳米硬度计等测试了膜的硬度、摩擦性能及结合强度.结果表明:所制备的膜表面均匀、致密、光滑,具有典型的类金刚石结构特征;掺杂的钨弥散分布在无定型的碳中,一部分形成W2C微晶相;当膜中钨原子分数约为20%时,膜的硬度最高,摩擦因数也相对较小,膜基结合力在70 N以上.

关键词：非平衡磁控溅射、掺杂钨、类金刚石膜、摩擦因数

所属期刊栏目：33

分类号：O484.5(固体物理学)

资助基金：广东省自然科学基金07006996A

在线出版日期：2009-11-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：79-84