10.3969/j.issn.1000-3738.2006.12.003
衬底材料和溅射方法对CNx薄膜膜基结合力的影响
分别将W18Cr4V高速钢和YG8硬质合金作为衬底材料,用直流磁控溅射和射频磁控溅射法制备了CNx薄膜,用划痕法测定了薄膜和衬底材料之间的膜基结合力.结果表明:YG8硬质合金作为衬底材料时薄膜的膜基结合力较高;对YG8硬质合金衬底材料进行适当的腐蚀处理或溅射一层TiN中间层,薄膜的膜基结合力明显提高;对于两种衬底材料,射频磁控溅射法制备的薄膜膜基结合力明显高于直流磁控溅射法制备的薄膜.
磁控溅射、衬底、CNx薄膜、结合力
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O484.4(固体物理学)
2007-01-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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