真空蒸镀TiNiPd形状记忆合金薄膜研究

摘要：

通过真空蒸镀方法在硅片和玻片上制备了TiNiPd合金薄膜,使用能谱仪、差示扫描量热法和X射线衍射等方法,研究了薄膜的成分及随退火温度上升的晶化和结构变化情况.结果表明:真空蒸镀薄膜成分偏离镀材成分,钛含量降低,钯、镍含量升高;真空蒸镀薄膜的晶化温度在600℃左右;B2相、B19相和B19′相是真空蒸镀薄膜在晶化处理后的主要组成相;450℃×5 h预处理促进B2相向B19′相转变.

关键词：TiNiPd、薄膜、真空蒸镀、形状记忆合金

所属期刊栏目：29

分类号：TG146.1(金属学与热处理)

资助基金：高等学校博士学科点专项科研项目20020248037;上海市科技发展基金02DJ14042

在线出版日期：2005-10-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：26-29