多弧离子镀(Ti,Cr)N膜层工艺及性能

摘要：

用多弧离子镀膜机,以W6Mo5Cr4V2高速钢为基体材料,镀覆(Ti,Cr)N多元膜,研究了多弧离子镀工艺对膜层性能的影响,确定了最佳镀膜工艺参数,探讨了多元膜层的强化机理.结果表明:膜层硬度及膜基结合力随偏压的增大而增大,膜层硬度随氮分压的升高而增大,孔隙率随氮分压的升高而增大.(Ti,Cr)N多元膜层强化机理主要是:晶粒细化、固溶强化、多元素优化.

关键词：多弧离子镀、(Ti、Cr)N多元膜层、工艺与性能

所属期刊栏目：26

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：20-22,40