N掺杂对磁控溅射Ta涂层微观结构与耐磨损性能的影响
采用磁控溅射技术,以AISI304不锈钢为基体,通过在溅射过程中引入不同流量的N2,制备出不同程度N掺杂的Ta涂层,研究了少量N掺杂对Ta涂层微观结构、物相组成、力学及磨损性能的影响.结果 表明,无N掺杂时,Ta涂层中的物相组成为α-Ta,晶粒粗大,(211)和(110)晶面竞争生长;N掺杂后涂层中的物相组成为TaN0.1,晶粒细小并呈(110)择优取向.少量N掺杂可以显著提高Ta涂层的硬度和弹性模量,并大幅度改善其抗磨损性能.涂层硬度和弹性模量的提高与晶粒细化、N原子固溶及涂层中存在的压应力有关.N掺杂后涂层的磨损机制由磨粒磨损向黏着磨损转变.
Ta涂层、磁控溅射、N掺杂、磨损
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TG174.4(金属学与热处理)
国家重点研发计划项目No.2017YFB0306100,国家自然科学基金项目Nos.51671053、51701223,装备预研教育部联合基金项目No.6141A020332-004以及中央高校基本科研业务费专项基金项目No.N160205001
2019-04-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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