倾斜溅射对CoFeB薄膜条纹磁畴结构与磁各向异性的影响
利用倾斜溅射的方法制备了非晶CoFeB磁性薄膜,研究了倾斜溅射对非晶CoFeB磁性薄膜条纹磁畴结构、面内静态磁各向异性、面内转动磁各向异性、垂直磁各向异性的影响规律.结果表明,倾斜溅射可以有效地降低CoFeB非晶薄膜条纹磁畴结构出现的临界厚度,无倾斜溅射时,CoFeB薄膜出现条纹磁畴结构的临界厚度大于240 nm,倾斜溅射时,出现条纹磁畴结构的临界厚度小于240nm.磁性测试结果表明,对于具有条纹磁畴结构的CoFeB薄膜,倾斜溅射不仅可以提高磁性薄膜的面内静态磁各向异性的强度,同时还可以增强面内转动磁各向异性与垂直磁各向异性的强度.随着倾斜溅射角度的逐渐增大,磁各向异性的强度均呈现增大的趋势.XRD和TEM观测结果证明,CoFeB薄膜趋于非晶结构,同时,SEM观察结果表明,CoFeB薄膜虽然不存在长程有序的晶体结构,但依然可以形成柱状结构,由于倾斜溅射技术,形成的柱状结构呈倾斜状态,从而增强了薄膜的垂直磁各向异性,导致条纹磁畴结构的出现.
CoFeB薄膜、条纹磁畴、铁磁共振、倾斜溅射、转动磁各向异性
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O469(真空电子学（电子物理学）)
国家自然科学基金项目Nos.11674336、51522105、51525103和11627801,国家重点研发计划项目No.2016YFA0201102和宁波市科技创新团队项目No.2015B11001
2018-10-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
共8页
1281-1288
