常化处理对薄规格取向硅钢织构的影响

摘要：

利用EBSD和XRD技术对比分析了常化和不常化2种工艺对薄规格取向硅钢组织及织构的影响.结果表明,2种工艺条件下的初次再结晶和二次再结晶织构存在着明显的差异.经过常化处理的样品初次再结晶组织中{411}<148>和{111}＜112>织构组分比不常化样品的低,但Goss织构组分比不常化样品的高;常化处理的样品二次再结晶织构多为锋锐的Goss织构,磁性能优异,而不常化处理的样品二次再结晶织构多为Brass织构和偏Goss织构.此外,经过常化处理样品的初次再结晶组织中Goss取向晶粒周围分布的20°～45°大角度晶界所占比例高于不常化处理样品.2种样品初次再结晶后的平均晶粒尺寸差别并不明显,均为20 μm,而且整体晶粒尺寸分布也相近.常化处理对最终磁性能有决定性影响,主要体现在提高冷轧前Goss取向“种子”的比例以及优化再结晶组织中Goss取向晶粒周围的织构环境.

关键词：薄规格取向硅钢、常化、织构、再结晶、低温热轧板

所属期刊栏目：52

分类号：TG142.77(金属学与热处理)

资助基金：国家电网公司科技资助项目SGRI-WD-71-13-002;Supported by Science and Technology Project of State Grid Corporation of China No.SGRI-WD-71-13-002

在线出版日期：2016-10-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：1063-1069