Si对高Nb-TiAl合金组织及室温拉伸性能的影响

摘要：

研究硅化物(Nb5Si3相)析出对高Nb-TiA)合金组织及室温拉伸性能的影响.实验结果表明,硅化物脱溶析出温度在1000～1200℃之间,析出物位于片层团晶界处、β(B2)相偏析处以及片层之间.添加Si元素后,合金室温拉伸性能有所增加.因为Nb5Si3相的形成使得β(B2)相稳定元素Nb含量下降,导致脆性相β(B2)相体积减少.但是,含Si高Nb-TiA)合金经过热处理后,室温拉伸性能随热处理温度提高而逐步降低.因为沿片层析出的硅化物会导致裂纹沿片层产生与增殖,而且应力会导致硅化物进一步析出,加速裂纹扩展.而且,Si的加入会导致y相区扩大,在1280～1300℃之间形成y单相区.硅化物析出在片层边界处,会导致块状γ4β(B2)相组织,脆化晶界;而硅化物析出在片层内部会导致二次y板条形成,割裂了初始片层组织.

关键词：高Nb-TiAl合金、Si合金化、组织演变、室温拉伸性能

所属期刊栏目：51

分类号：TG146.2(金属学与热处理)

资助基金：国家重点基础研究发展计划项目2011CB605500和国家自然科学基金项目51271016资助;Supported by National Basic Research Program of China No.2011CB605500 and National Natural Science Foundation of China No.51271016

在线出版日期：2015-08-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：859-865