电解抛光态690TT合金经不同时间浸泡后表面氧化膜结构分析

摘要：

利用AFM,SEM,TEM,EDS及XPS分析了电解抛光处理690TT合金在含B和Li,充H2的高温高压水溶液中经不同时间浸泡后表面生长氧化膜的微观结构.结果表明,从短期氧化到长期氧化,氧化膜表面形貌变化不明显;氧化膜主要由具有尖晶石结构的氧化物和单质Ni构成.浸泡720,1440和2160 h后,氧化膜均由外层、中间层和内层构成:外层是分散的富含Ni和Fe的尖晶石结构的大颗粒氧化物;中间层是疏松的富含Ni的尖晶石结构的针状氧化物;内层是连续致密的富Cr氧化物.仅氧化膜中的内层氧化物能对基体起到良好的保护作用.电解抛光处理不利于690TT合金表面保护性氧化膜的快速生长.浸泡至2160 h后,氧化膜依然缺乏保护性,内层氧化膜的平均生长速率并未显著降低.

关键词：690TT合金、电解抛光处理、浸泡时间、氧化膜、保护性结构

所属期刊栏目：47

分类号：TG172.82(金属学与热处理)

在线出版日期：2012-01-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：831-838