反应磁控溅射法高速低温沉积锐钛矿相TiO_2薄膜的结构与光学性能

摘要：

采用诱导型耦合等离子体辅助直流磁控溅射法在石英玻璃片上反应沉积TiO_2薄膜,通过X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM)和紫外可见光谱(UV-Vis)对薄膜特性进行表征.结果表明,叠加诱导型耦合等离子体和局部富氧增加了等离子体的反应活性,在金属溅射模式和低于200℃的沉积条件下,制备了高质量的锐钛矿相TiO_2薄膜;该薄膜在550 nm处的折射率和消光系数分别为2.51和7.8×10~(-4)

关键词：TiO_2薄膜、磁控溅射、金属溅射模式、低温沉积、折射率

所属期刊栏目：46

分类号：TQ034(一般性问题)

资助基金：国家自然科学基金50572063

在线出版日期：2010-05-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：13-18