Bi2Sr2CaCu2O(8+δ)薄膜的分子束外延法制备及结晶性

摘要：

在BiO-(Sr+Ca)O-CuO相图上的Bi2Sr2CaCu2O8+6(Bi-2212)相附近选择不同成分,用分子束外延法制备成薄膜,利用XRD,EDS,SEM和AFM研究了成分,衬底温度和臭氧分压对Bi-2212相薄膜成相的影响,分析了生长速率和错配度对Bi-2212相薄膜质量的影响.结果表明,Bi-2212相薄膜单相生成的成分范围(原子分数)分别为Bi 26.3%-32.4%,(Sr+Ca) 37.4%-146.5%,Cu 24.8%-32.6%;当衬底温度为720℃且臭氧分压为1.3×10-3 Pa时,在MgO(100)衬底上生长出质量较高的c轴外延Bi-2212相薄膜;通过调整生长速率、更换衬底和插入不同厚度的Bi2Sr2CuO(6+δ)过渡层的方法,可以改善Bi-2212相薄膜的结晶质量.表面形貌和导电特性.

关键词：Bi2Sr2CaCu2O(8+δ)薄膜、分子束外延、衬底温度、臭氧分压、生长速率、错配度

所属期刊栏目：45

分类号：TN405.984(微电子学、集成电路（IC）)

资助基金：国家自然科学基金资助项目 50572013

在线出版日期：2009-08-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共10页

页码：663-672