脉冲偏压电弧离子镀C-N-Cr薄膜的成分、结构与性能

摘要：

用脉冲偏压电弧离子镀设备在保持偏压一致和工作气压恒定的条件下,控制不同氮(N)流量,在硬质合金基体上制备了不同成分的C-N-Cr薄膜.用SEM,XPS,GIXRD,激光Raman谱和纳米压入等方法分别研究了薄膜的表面形貌、成分、结构与性能.结果表明,随着N流量增加,薄膜中N含量先是线性增加然后趋于平缓,Cr含量先是基本保持不变然后线性减少.在N流量不超过20 mL/min时,薄膜保持较高的硬度(＞30 GPa)与弹性模量(＞500 GPa);当N流量超过20 mL/min时,薄膜硬度与弹性模量急剧下降,在N流量为100 mL/min时硬度与弹性模量仅为13.6与190.8 GPa.

关键词：C-N-Cr薄膜、脉冲偏压、电弧离子镀、结构、性能

所属期刊栏目：45

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：国家高技术研究发展计划项目2006AA03Z521和2007AA03Z221资助

在线出版日期：2009-06-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：610-614