低能量离子束辐照磁控溅射沉积超硬质nc-TiN/nc-Cu纳米复合膜

摘要：

利用诱导型等离子体辅助双靶磁控溅射法在Si(100)基板表面沉积Cu含量(原子分数)为0-10.0%的Ti-Cu-N膜,研究了Cu含量对薄膜结构及硬度的影响.结果表明,添加少量Cu可极大地提高薄膜硬度.Cu含量为2.0%的Ti-Cu-N薄膜具有超硬特性,硬度HV达到42,约为纯TiN薄膜硬度的2倍.超硬质Ti-Cu-N薄膜为nc-TiN/nc-Cu纳米复合薄膜,具有柱状晶结构.薄膜的超硬特性源于薄膜的纳米复合结构.

关键词：磁控溅射、离子照射、纳米复合膜、硬度

所属期刊栏目：42

分类号：TB383(工程材料学)

资助基金：国家自然科学基金50572063;教育部留学回国人员科研启动基金

在线出版日期：2006-10-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：993-997