10.3321/j.issn:0412-1961.2006.07.005
Ni-P非晶薄膜晶化相与相变动力学的XRD分析
用原位XRD技术分析了连续加热过程中电沉积Ni-P薄膜晶化与相变行为.通过定量分析,确定出不同温度下各相的析出量,由此计算出各相的晶化与相变激活能以及晶化结晶度.结果表明,Ni-P非晶薄膜的晶化与相变行为与薄膜中P的含量有关.在晶化过程中出现了四种亚稳相即NiP,Ni2P,Ni12P5及Ni5P2.计算得到:亚稳相NiP,Ni2P及稳定相Ni3P的相变激活能分别为133±15,172±1g及190±20 kJ/mol;单个析出相的相变激活能低于Ni-P合金晶化激活能和Ni原子的自扩散激活能.
Ni-P非晶薄膜、晶化过程、原位XRD、激活能、结晶度
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TB383(工程材料学)
上海市应用材料研究与发展基金0412
2006-08-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
699-702