光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化Ⅰ.Al2O3相的表征与相转变
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10.3321/j.issn:0412-1961.2003.10.009

光激发荧光谱术分析Co-Cr-Al(Y)纳米涂层的氧化Ⅰ.Al2O3相的表征与相转变

引用
磁控溅射Co-Cr-Al(Y)纳米涂层在1000,1100和1200℃氧化一定时间后,用光激发荧光谱技术表征热生长的Al2O3相.发现氧化层局部区域存在由非稳态相向稳态相的转变,即:γ→θ→α;其转变过程随温度升高显著加快,并在1200℃下变得不明显.在相同温度下,Y明显减缓A12O3相转变过程.

光激发荧光谱术、A12O3、相转变、Co-Cr-Al(Y)纳米涂层、磁控溅射

39

TG174.444(金属学与热处理)

中国科学院引进国外杰出人才基金

2004-08-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

1055-1059

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金属学报

0412-1961

21-1139/TG

39

2003,39(10)

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