10.3321/j.issn:0412-1961.2003.10.008
反应磁控溅射MgO薄膜溅射模式的分形维表征
用反应磁控溅射的方法制备了MgO薄膜.基于原子力显微镜观测,并借助Fourier变换,计算了薄膜表面形貌的分形维数.发现分形维数变化对应于薄膜溅射模式的变化,二者之间有相关性氧分压30%的分形维数是一个临界点.分形维数若发生明显跌落,意味着溅射模式发生变化.界于临界值两侧的分形维数,分别对应两种截然不同的溅射模式.与临界值对应的溅射状态则处于金属模式和氧化物模式的混和状态.
反应溅射、MgO薄膜、分形维、溅射模式
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TG174.44;O484(金属学与热处理)
国家自然科学基金59931010;教育部高校骨干教师资助计划
2004-08-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
1051-1054