脉冲偏压电弧离子低温沉积TiN硬质薄膜的力学性能

摘要：

利用直流和脉冲偏压电弧离子镀技术沉积TiN硬质薄膜,研究了不同偏压下基体的沉积温度、薄膜的表面形貌及力学性能.结果表明,与直流偏压相比,脉冲偏压可以明显降低基体的沉积温度,大大减少薄膜表面的大颗粒污染,改善表面形貌,而薄膜的综合力学性能仍保持良好,说明利用脉冲偏压技术是实现电弧离子镀低温沉积的有效途径.

关键词：电弧离子镀、低温沉积、脉冲偏压、TiN薄膜

所属期刊栏目：39

分类号：TB43;TG115.22(工业通用技术与设备)

在线出版日期：2004-08-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：516-520