粉末冶金法多弧离子镀(PVD)用钛靶材的制备

摘要：

概要介绍了用粉末冶金工艺制备磁控溅射沉积TiN膜用钛靶的方法,探讨了其技术、经济可行性.结果表明,该方法制备钛靶是可行的,并可推广应用于其它钛复合靶、钛合金、钛化合物靶制备.

关键词：磁控溅射、钛靶、粉末冶金

所属期刊栏目：38

分类号：TG146.23(金属学与热处理)

在线出版日期：2004-08-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：594-595