10.3321/j.issn:0412-1961.2002.07.012
Cu-Sn界面上金属间化合物生长的抑制
用金相和润湿力测定的方法研究了带不同隔离层的Cu线在热浸Sn和电镀Sn制备电子元件引线时仓储可焊性的变化.实验表明,Ni隔离层与Cu芯线的结合能力和保护能力最强,但只适用于350℃以下热浸Sn工艺.Co隔离层则可完满地适用至450℃.Fe隔离层由于热浸Sn时往往局部破裂,不能使Cu-Sn得到完全的隔离.Fe,Co,Ni隔离层在电镀法覆锡制备引线时均能获得良好的效果.
金属间化合物、电子元件引线、隔离层、钎焊
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TG146.1;TM24(金属学与热处理)
北京市自然科学基金2982017
2004-08-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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727-730