10.3321/j.issn:0412-1961.2001.09.006
Al合金等离子体基离子注入形成AlN/DLC层结构研究
用X射线光电子能谱(XPS)和小掠射角X射线衍射(GAXRD)研究了铝合金LY12等离子体基离子注入N+原位注入C形成AlN/DLC(类金刚石碳膜)改性层的成分分布及相结构,用激光Raman光谱分析了表面单一碳层的结构,对过渡层元素进行了Gaussian-Lorentzion峰位拟合分析.结果表明,N浓度在注入层呈Gauss分布,C浓度沿注入方向逐渐减小.C的注入使N分布有所拓宽.C在表面还能形成一层单一稳定的400 nm厚的DLC膜.过渡层主要由Al4C3,Al2O3,AlN,β-C3N4等组成.改性层总厚度达800 nm.
铝合金、等离子体基离子注入、DLC膜、表面改性
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TG142.2(金属学与热处理)
国家自然科学基金59771059
2004-08-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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922-926