10.3321/j.issn:0412-1961.2001.06.012
柱状晶界面对溅射NiAl微晶涂层高温氧化性能的影响*
利用TGA,SEM对NiAl微晶的涂层在空气中1000 ℃恒温及循环氧化过程中柱状晶界面所起的作用进行了研究结果发现,柱状晶界面微孔在氧化初期作为自由表面严重影响了初始氧化动力学,同时柱状晶界面氧化物微钉的形成大大提高了氧化膜的粘附性建立了基于柱状晶界面的附加自由表面数学模型
NiAl微晶涂层、柱状晶界面、氧化
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TG174.2(金属学与热处理)
国家自然科学基金59625103;国家高技术研究发展计划863计划715-011-012
2004-08-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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