10.3321/j.issn:0412-1961.2001.06.004
O2在U和U-Nb合金表面吸附的XPS研究
采用X射线光电子能谱(XPS)分析研究了298 K时O2在金属U和U Nb合金清洁表面的原位吸附过程,作为对照还研究了在纯Nb表面的吸附.吸附各阶段XPS图谱的变化揭示了O2在U,Nb和U-Nb合金表面的吸附将导致UO2,NbO和Nb2O5等多种产物形成定量分析表明,O2在U和U-Nb合金表面的饱和吸附量大约分别为45 L和40 L(1 L=L33x10-4Pa@s),而O2在金属Nb上的饱和吸附量仅约为10 L.
O2、U、U-Nb合金、表面吸附、X射线光电子谱
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O614.62(无机化学)
中国工程物理研究院基金990567
2004-08-06(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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