10.3969/j.issn.1001-246X.2008.04.018
Si中30度部分位错弯结运动特性的分子模拟
首先使用分子动力学方法(MD)得出了左弯结(LK)和右弯结(RK)在不同温度和剪应力作用下的速度特性和运动过程.然后利用基于紧束缚势(TB)的nudged elasttic band(NEB)方法计算LK和RK的迁移势垒.由计算结果得出,单个LK或RK的势垒很高,运动速度相对较慢;LK(中的多弯结对结构和由RK分解产生的右弯结-重构缺陷(RC)能够加速位错运动;其中,RC能促进30°部分位错更快地迁移.
30°部分位错、分子动力学、NEB、弯结、迁移势垒
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O411.3;O474(理论物理学)
2008-09-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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