表面凹陷对等离子体浸没离子注入均匀性的影响

摘要：

利用二维流体模型和数值计算方法模拟了等离子体浸没离子注入(PⅢ)中，具有圆弧凹槽的平面靶周围的鞘层扩展情况，计算了鞘层扩展过程中的电势分布、离子速度和离子密度变化，获得了沿靶表面的离子入射角度和注入剂量的分布情况，为等离子体浸没离子注入处理复杂形状靶提供了理论基础。

关键词：等离子体浸没离子注入、鞘层、数值模拟

所属期刊栏目：17

分类号：O53(等离子体物理学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：449-454