双模板导向印迹复合膜的制备及其 回收Nd3+的研究

摘要：

钕(Nd)是钕磁铁的关键部分,从稀土永磁体中分离Nd已经引起了广泛的关注.通过双模板导向离子印迹(DTD-OII)法,加入氧化石墨烯水溶液,制备出一种新型自撑式离子印迹氧化石墨烯复合膜(IGOMs).与传统印迹方法相比,该方法不需要额外步骤,显著提高印迹效率的同时,制备出的自撑式复合膜还表现出固-液萃取对Nd3+选择性吸附性能.实验结果表明:在pH=4.0时,IGOMs的Nd3+最大吸附量为27.27 mg/g.此外,石墨烯的掺杂可以有效提高复合膜柔性和稳定性,使其在工业应用上成为可能.

关键词：钕回收、双模板导向离子印迹、氧化石墨烯、柔性膜、选择性分离

所属期刊栏目：31

分类号：X756(矿业、冶金工业废物处理与综合利用)

资助基金：国家自然科学基金资助项目21808018

在线出版日期：2019-12-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：69-76