高纯铝片抛光工艺及对氧化铝模板的影响

摘要：

在多孔阳极氧化铝(Porous anodic alumina,PAA)制备过程中,为了得到更稳定的电解过程,实现高度有序的纳米孔阵列结构,对高纯铝片表面进行抛光是一个典型的、必要的步骤.为此系统研究了高氯酸/乙醇抛光液体系在不同电压(1,5,10,20V和25V)和不同时间(10,60s和180s)下的抛光工艺,以及抛光对高纯铝片表面以及PAA的影响,获得用于制备PAA模板较合适的抛光工艺,即抛光电压为10V,抛光时间为180s.

关键词：电化学抛光、多孔阳极氧化铝模板、表面平整度

所属期刊栏目：23

分类号：TQ586.5

资助基金：常州市科技支撑项目资助CE20100047

在线出版日期：2011-12-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：6-10