Si(100)上Ge1-xCx合金薄膜的CVD外延生长

摘要：

用化学气相淀积生长方法,以乙烯为碳源、锗烷为锗源,在Si(100)衬底上外延生长出了C组分达3%的Ge1-xCx合金薄膜,研究表明随着生长温度和乙烯分压的提高均可导致Ge1-xCx薄膜中碳组分的增加;X射线衍射测量显示随着C组分的增加合金薄膜晶格常数不断减小,这表明外延薄膜中的C原子主要以替位式存在.红外吸收谱的测量结果显示Ge1-xCx合金的禁带宽度随着C组分的增加而线性增加,从0.67 eV到0.87 eV,与理论相符,说明碳的掺入有效地调节了禁带宽度.另外拉曼光谱显示Ge1-xCx合金在387 cm-1出现一新峰,该峰是Ge1-xCx薄膜中的Ge在K点的双声子振动引起的.

关键词：Ge1-xCx合金薄膜、化学气相淀积、拉曼光谱

所属期刊栏目：17

分类号：O433.4(光学)

资助基金：国家重点基础研究发展计划973计划G2000068305

在线出版日期：2005-08-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：30-33