循环氩离子轰击对等离子体增强化学气相沉积(PECVD)TiN膜耐腐蚀性能的影响

摘要：

设计了循环氩离子轰击-PECVD TiN工艺.运用扫描电子显微镜、能谱仪、恒电位仪等仪器设备,研究循环氩离子轰击对PECVD TiN膜耐腐蚀性能的影响及作用机理.结果表明:循环氩离子轰击提高了膜层在硝酸和硫酸中的耐腐蚀性能.这主要是由于循环氧离子轰击强化了沉积中的反应,细化了TiN晶粒,降低了膜层中的残余氯含量.循环氩离子轰击还可能具有减少膜内缺陷、提高TiN膜致密性的作用,从而亦有助于提高膜的耐蚀性.

关键词：等离子体增强化学气相沉积、TiN膜、耐蚀性、Ar+轰击

所属期刊栏目：12

分类号：TG174.453(金属学与热处理)

在线出版日期：2007-05-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：27-30