基于GDOES分析的磁控溅射制备钛膜工艺优化

摘要：

采用辉光放电发射光谱(GDOES)测试分析方法研究了磁控溅射功率、工作气压、基片温度等工艺参数对钛膜厚度、密度、扩散层的影响.结果 表明,在0.2Pa工作气压条件下,在100～300 W范围内溅射功率与沉积速率呈近似线性关系;在溅射功率200W条件下,工作气压在0.2～0.7 Pa范围内的沉积速率较为稳定,约为16 nm/min,而增大工作气压将显著降低钛膜密度,工作气压0.2 Pa对应的钛膜密度达到4.47 g/cm3,而0.7 Pa对应的钛膜密度仅为3.26g/cm3;基片温度显著影响了钛膜与钼基片之间的扩散层厚度,在溅射功率200W、工作气压0.2 Pa条件下镀膜300 min,基片温度100℃下的扩散层厚度为487 nm,250℃下则达到814 nm.

关键词：磁控溅射、钛膜、密度、扩散层、辉光放电发射光谱(GDOES)

所属期刊栏目：41

分类号：TG174.44(金属学与热处理)

资助基金：科技部中子管项目;中核集团自主研发项目

在线出版日期：2020-09-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：121-127