不同Hf含量IrO2-HfO2涂层电极材料的电容性能

摘要：

采用热分解法制备Ti/IrO2-HfO2二元氧化物涂层电极.通过X射线衍射(XRD)研究了不同Ir/Hf配比涂层的结构特征;采用循环伏安(CV)方法分析了不同电极涂层的比电容、“内/外活性”及电极稳定性,并初步讨论了电极稳定性与涂层结构间的关系.结果表明,添加Hf可改善涂层结构、提高比电容及电极稳定性、且当涂层中HfO2达到50 mol％时电极活性最高、稳定性最佳.

关键词：IrO2-HfO2、电极、电容、涂层

所属期刊栏目：34

分类号：TM53(电器)

资助基金：国家自然科学基金11104031,11374053;福建省发改委重点项目0180829034;福建省教育厅项目JA11017;福建省科技厅项目2013J01175

在线出版日期：2014-02-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：155-160