p-Si薄膜在氢氟酸溶液中的电化学抛光

摘要：

p-Si薄膜在氢氟酸溶液中的电化学抛光是通过阳极溶解降低薄膜表面粗糙度.本文用线性扫描研究了在不同的氢氟酸浓度下的电化学行为,发现随氢氟酸溶液浓度的增加阳极溶解速率也随之增加.当氢氟酸浓度为4％及6％时,可得到平整的表面.电化学抛光技术为制备光亮硅面提供了一种简单可行的方法.

关键词：电化学抛光、p-Si薄膜、阳极溶解、微细加工

所属期刊栏目：32

分类号：TG175(金属学与热处理)

资助基金：江西省自然科学基金2010GQC0108;江西省青年科学家井岗之基培养对象20112BCB23022

在线出版日期：2012-05-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：27-29