金刚石自支撑膜衬底制备AlN薄膜的性能

摘要：

采用射频磁控反应溅射法在金刚石自支撑膜衬底上沉积了AlN薄膜,XRD结果表明得到了（002）面择优取向的AlN薄膜;AFM的表面形貌结果显示薄膜表面平整,晶粒均匀,表面粗糙度为2.97 nm。XPS分析结果表明,离子剥蚀2.1 nm后Al/N原子百分比接近于1∶1;结合红外透过曲线和纳米力学探针测试,表明AlN薄膜在1500～800 cm-1波段对金刚石膜有约14%的增透作用,其平均硬度为21.5 GPa,平均弹性模量为233.3 GPa。

关键词：射频磁控反应溅射、金刚石自支撑膜、AlN、增透性

所属期刊栏目：32

分类号：TB383;O484.4(工程材料学)

资助基金：国家"863"计划支持项目2008AA03Z408

在线出版日期：2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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