10.3969/j.issn.1009-6264.2007.02.007
采用中频反应磁控溅射技术沉积氮化锆薄膜
采用中频反应磁控溅射技术沉积ZrN薄膜,在真空镀膜机内对称安装了3对矩形孪生靶.利用等离子体发射光谱和质谱仪QMS200分别实时监控真空炉内靶材表面的谱线变化和各种气氛的分压强,并通过控制系统氮气流量自动调控,从而消除了靶中毒和打火现象,确保了溅射镀膜的稳定进行.通过对氮化锆膜层的显微组织观察、X射线衍射和俄歇半定量分析,沉积的氮化锆薄膜膜层致密,与基体的结合牢固.结果表明:当炉内氮气分压强为45%,控制靶电压200V,靶电流为25A,逐步调节Ar与N2比例,可获得成分均匀,膜层致密,结合力较好的金黄色氮化锆薄膜.
中频溅射、孪生对靶、氮化锆、薄膜
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TG174.444;TG132.5(金属学与热处理)
河北农业大学校科研和校改项目F05010
2007-05-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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