中频对靶磁控溅射制备含铬类金刚石薄膜

摘要：

利用新型中频对靶磁控溅射在硅和M2高速钢基体上沉积了一系列无氢含铬类金刚石膜.考察了类金刚石膜的表面形貌、显微结构、硬度、结合力和摩擦磨损性能.结果表明:合成的类金刚石薄膜具有优良的综合性能,硬度为30-46GPa、结合力Lc达50-65N、大气环境下摩擦系数约为0.1.

关键词：含铬类金刚石薄膜、中频对靶磁控溅射、多层梯度结构

所属期刊栏目：27

分类号：TG174.444;TB383(金属学与热处理)

资助基金：中国科学院资助项目50475057;国家重点实验室基金

在线出版日期：2006-05-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：27-30