等离子辉光TiN复合渗镀层结构与性能的研究

摘要：

利用等离子渗金属技术、尖端放电、空心阴极效应和反应气相沉积技术,在碳钢表面形成具有扩散层和沉积层的新型复合渗镀TiN沉积层+TiN析出相+Ti扩散层,并与等离子渗镀TiN/Ti层以及在碳钢基体表面直接用PVD法沉积TiN薄膜的表面形貌、结构、耐蚀性进行了检测和分析.结果表明:等离子渗镀的复合渗镀TiN/Ti层表面为均匀起伏的胞状物,Ti和N原子由表层呈梯度沿基体向内分布,属于冶金扩散层;用等离子渗金属技术等形成的复合渗镀TiN沉积层+TiN析出相+Ti扩散层,其表面形貌是为均匀、致密、细小的组织,平均硬度达到2500HV0.1左右,渗镀层厚度达十几微米,TiN层择优取向为(200)晶面;而PVD法直接沉积TiN薄膜厚度较薄,晶粒以不规则形式分布在基体上.在0.5mol/L H2SO4溶液中腐蚀性能表明,复合渗镀TiN沉积层+TiN析出相+Ti扩散层的耐蚀性较好.

关键词：等离子辉光放电、PVD、TiN、耐蚀性、组织结构

所属期刊栏目：26

分类号：TG156;TG174.4(金属学与热处理)

资助基金：中国科学院资助项目;上海宝钢集团公司资助项目50374050;山西省自然科学基金20031050

在线出版日期：2006-01-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：109-112