NiTi形状记忆薄膜的溅射制备及晶化热处理工艺

摘要：

用磁控溅射法制备了MiTi非晶薄膜.薄膜无形状记忆效应.研究了经不同晶化热处理后的形状记忆效应,获得的最佳晶化热处理条件为500～700℃范围内晶化0.5h.

关键词：NiTi形状记忆薄膜、溅射制备、晶化热处理

所属期刊栏目：22

分类号：TG139+.6(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金59672024;上海市青年科技启明星计划98QE14029

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：40-42